ユニテンプジャパン(株)

  • 【展示会】
    第3回 名古屋 航空・宇宙機器 開発展
  • 【小間番号】 1-18
  • 【都道府県】 東京都
  • 【取引実績】
    自動車、輸送機器
    航空宇宙
    電機、精密機器、半導体
    医療、ヘルスケア
    化学、食品、医薬
  • 酸化膜還元、高速アニール技術で課題解決に繋がるご提案をします
  • ギ酸還元による酸化膜除去やはんだ濡れ性向上、SiC、GaNパワーデバイス生成に必要な安定した高温環境維持を実現する、卓上型の各種装置を展示にて紹介します。

製品・サービス一覧

  • ギ酸還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置

    水素還元よりも効率よく安全に、還元による酸化皮膜除去を手軽に行うことができます。フラックスを使わずにはんだ実装が可能な上、ボイド除去も同時に実現できます。タッチパネルコントローラによるプロファイルプログラム作成、実行に対応しています。

  • 卓上型真空・プロセスガス高速加熱炉

    フロントローディング方式で、プロセスチャンバーには超高純度石英チャンバーを採用、上下に搭載された赤外IRヒータ加熱により到達最大温度1200℃、昇温速度150k/秒の高速加熱処理が可能最大4系統のガス供給、超高真空プロセスにも対応。

ロード中です

ロード中です

※上記の情報は来場ユーザーから出展社への事前アポイント申請用に公開しています。
それ以外の目的(セールスなど)で無断に使用・転載することを固く禁じます。

当ウェブサイトは、運営と効用の改善のためにクッキーを利用しています。クッキーについての詳細、利用目的や管理方法は、プライバシー&クッキーをお読みください。尚、このサイトを利用するにあたり、あなたはクッキーの使用に同意していることになりますのでご留意ください。